VAT 61.3 HV蝶式控制阀：如何满足CVD/ALD精细下游控制

在半导体CVD、ALD、薄膜沉积、晶体生长等真空工艺中，下游压力控制直接决定薄膜均匀性、沉积速率和工艺重复性。传统真空控制阀常面临几个问题：响应速度慢，设定压力变化后阀板动作滞后，导致工艺窗口漂移；在含颗粒气流和碎片堆积的严苛下游环境中，阀板和传动机构容易卡滞或磨损；压力控制精度不足，难以在1×10⁻⁸ mbar至1.2 bar的宽范围内保持稳定。更棘手的是，CVD和ALD工艺对压力控制的精细度要求高，阀板位置需要快速、**地调整以改变阀门开启的导电率。如何在宽压力范围、高颗粒负载和频繁动作条件下实现快速**的下游压力控制，成为真空控制阀选型的核心问题

61.3 HV蝶式控制阀提供了**的压力控制性能。凭借其快速且**的动作控制器（0.1秒），它是CVD和ALD工艺中精细控制的**解决方案。该板起节流元件的作用，改变阀门开启的导电率。61.3的集成压力控制器计算出所需的板材位置，以尽快达到设定压力。

核心性能与设计要点

61.3定位清晰：蝶式控制阀、0.1秒快速动作、1×10⁻⁸ mbar至1.2 bar压力范围、200万次压力控制、高颗粒负载可靠运行。其核心性能与设计信息如下：

• 压力范围：1×10⁻⁸ mbar至1.2 bar（abs）。

• 动作速度：0.1秒快速**动作控制器。

• 尺寸：DN 25（1英寸）至DN 320（12英寸），共10种口径。

• 执行器：带步进电机的集成控制器。

• 阀体材质：铝或不锈钢。

• 标准法兰：ISO-KF、ISO-F；可集成客户专用法兰。

• 泄漏率阀体：铝<1×10⁻⁹ mbar·l/s；不锈钢<1×10⁻⁹ mbar·l/s。

• 压力控制循环：2百万次（**维护前）。

• 温度：阀体≤150°C；控制器*大50°C（建议≤35°C）。

• 材质：阀体、板为铝EN AW-6082（3.2315）或不锈钢AISI 316L（1.4404或1.4435）；轴为AISI 316L；密封馈通为FKM（其他按需）。

• 馈通：旋转轴，直接驱动。

• 安装位置：任意（建议轴在泵侧）。

• *大压差：板上1000 mbar（DN 25），75 mbar（DN 320）。

• 导电率：分子流22 l/s（DN 25），27000 l/s（DN 320）。

• *小可控导电率：分子流0.15 l/s（DN 25），6 l/s（DN 320）。

• 典型关闭或开启时间（“仅位置"版本）：铝/不锈钢0.09秒（DN 25），0.29秒（DN 320）。

• 重量：铝阀2.0kg（DN 25）至10.4kg（DN 320）；不锈钢阀2.5kg（DN 25）至12.3kg（DN 320）。

• 设计选项：车体材料、表面处理、弹性体、法兰连接、特殊尺寸、特殊控制算法（自适应、固定PI下游/软泵）。

• 控制接口：Logic（A/D）、Profibus、RS232、RS485、CC-Link、DeviceNet、EtherCAT等。

• 应用：CVD、ALD、薄膜沉积、晶体生长、太阳能薄膜沉积、照明薄膜沉积、薄膜封装、电池生产、OLED喷墨打印、照明蚀刻、过程控制与隔离。

• 产品型号：61.3系列。

0.1秒快速动作与集成压力控制

61.3的核心优势之一，是0.1秒快速**动作控制器。蝶板作为节流元件，改变阀门开启的导电率。集成压力控制器计算出所需板材位置，以尽快达到设定压力。对于CVD和ALD工艺，快速响应减少了设定压力变化后的工艺波动，提升了薄膜均匀性和工艺重复性。

“仅位置"版本的典型关闭或开启时间为0.09秒（DN 25）至0.29秒（DN 320），进一步体现了快速动作能力。

高颗粒负载与可靠运行

61.3特别设计用于气流中颗粒的严苛下游过程。尽管设计上存在高颗粒载荷和碎片堆积，61.3仍保持全功能运行。对于CVD、ALD和薄膜沉积中可能产生颗粒的工艺，这一设计减少了阀板卡滞和停机维护。

61.3系列已在数千个高要求的应用中安装，在各种工艺条件下取得了**的可靠性。

宽压力范围与多口径覆盖

61.3的压力范围覆盖1×10⁻⁸ mbar至1.2 bar（abs），适应从高真空到接近大气压的宽范围。尺寸从DN 25至DN 320共10种口径，导电率从22 l/s（DN 25）至27000 l/s（DN 320），*小可控导电率从0.15 l/s至6 l/s，覆盖从小型工艺腔体到大型真空系统的需求。

设计选项与控制接口

61.3提供车体材料、表面处理、弹性体、法兰连接、特殊尺寸以及特殊控制算法（自适应、固定PI下游/软泵）等多种设计选项。控制接口包括Logic（A/D）、Profibus、RS232、RS485、CC-Link、DeviceNet、EtherCAT等，便于集成到不同真空控制系统。

阀体材质可选铝或不锈钢，标准法兰为ISO-KF和ISO-F，可集成客户专用法兰和带保温层的集成加热器。FFKM/FKM弹性体可按需提供。

面向CVD/ALD下游压力控制的选型路径

从0.1秒快速动作、1×10⁻⁸ mbar至1.2 bar压力范围、DN 25至DN 320共10种口径、带步进电机集成控制器、铝/不锈钢阀体、ISO-KF/ISO-F法兰、<1×10⁻⁹ mbar·l/s泄漏率、200万次压力控制循环、阀体≤150°C、高颗粒负载可靠运行、多种控制接口和特殊控制算法，到适用于CVD、ALD、薄膜沉积、晶体生长、电池生产等场景，VAT 61.3 HV蝶式控制阀并不是普通真空控制阀的简单替代，而是围绕快速**下游压力控制、高颗粒负载可靠性和宽范围适配需求的系统性方案。

对于CVD、ALD、薄膜沉积、晶体生长、电池生产等领域的终端用户和OEM而言，61.3用0.1秒快速动作、集成压力控制、高颗粒负载可靠运行和宽压力范围，为真空工艺下游压力控制提供了清晰答案。